大型污水处理厂设备价格(污水处理要多少钱)

半导体制造技术中,通过光刻、蚀刻、沉积、离子注入、研磨、清洗等一系列工艺形成具有各种功能的半导体芯片。然后封装半导体芯片并测试其电性能,最后形成最终产品。目前,半导体芯片制造过程中产生了大量的工业废水

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一种芯片生产废水处理工艺,包括以下操作步骤

第一步:当废水的酸碱度为4-6时,用孔径为0.3-0.5的片状石灰钙固定块作为吸附质的载体,在片状石灰钙固定块上覆盖固定网;

第二步:向池中加入中和剂和混凝剂,再次测试,如果PH值达到4,将辅助混凝剂引入池中,再引入凝聚效应器,凝聚后以厌氧状态输出;

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第三步:进行快速混凝反应,加入辅助混凝剂,静置2小时;

第四步:将废水喷入蒸发器进行蒸发处理,废水全部脱水成气态,蒸发时间为12-16小时,蒸发温度为180-220℃;

第五步:引入蒸发器的废水浓度为允许的上限PH值4,一旦停止,废水继续投入;

第六步:将废气引入冷凝塔,喷洒雾状中和剂,中和剂的温度为10~12℃;

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第七步:冷凝完成,剩余废气进入等离子体反应器进行电离处理;

第八步:将从冷凝塔提取的反应水引入最终反应池,并引入废水处理剂,所述废水处理剂包括净水剂聚合氯化铝共聚物和芬顿试剂;基于废水处理剂的总重量,聚合氯化铝共聚物的含量为50-70wt%。

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